F6斷路器中必須充以額定壓力的SF6氣體。對(duì)SF6氣體除符合有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)的質(zhì)量規(guī)定外，還要嚴(yán)格控制SF6氣體中的微量水分含量。為什么要控制SF6氣體中的水分呢？因?yàn)樗謱?duì)斷路器的性能有較大影響；當(dāng)SF6氣體含水較多時(shí)，受潮的固體分解呈半導(dǎo)體特性，是絕緣子表面絕緣電阻下降，影響氣體的絕緣特性；當(dāng)斷路器開(kāi)斷短路電流時(shí)，就會(huì)因絕緣能力不足在恢復(fù)電壓峰值附近被擊穿，致使開(kāi)斷失��；同時(shí)開(kāi)斷時(shí)電弧的高溫是水分分解，與SF6氣體的分解物化合行程HF、H2SO4以及不同的低分子氟化物，這些物質(zhì)除對(duì)斷路器的零件有腐蝕作用外還含有毒性。所以有關(guān)標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定了SF6氣體中微量水分含量的標(biāo)準(zhǔn)：（見(jiàn)表1，表中ppm為體積比）SF6微量水分測(cè)量
表1
|
序號(hào) |
容器 |
出廠試驗(yàn) |
交接驗(yàn)收試驗(yàn) |
運(yùn)行允許值 |
|
1 |
新氣瓶中的SF6 |
＜8ppm |
|
|
|
2 |
有電弧分解物氣室中的SF6 |
≤150ppm |
≯150~200ppm |
≯300~400ppm |
|
3 |
無(wú)電弧分解物氣室中的SF6 |
≤300ppm |
≯500ppm |
≯1000ppm |
SF6氣體中微量水分測(cè)量方法常用的有電解法和露點(diǎn)法。
一、電解法（以HTCMS10型和HTCMS20型兩種水分測(cè)量?jī)x為例）。
1）儀器應(yīng)保存在恒溫（20℃）和恒濕（相對(duì)濕度70%~80%）的室內(nèi)（或箱中）。
2）使用前儀器應(yīng)降低本底值，方法時(shí)用高純氮或新SF6氣體以20~40/min的流速吹掃電解池，干燥至≤10ppm~20ppm后才能進(jìn)行測(cè)量。
3）試品應(yīng)充額定氣壓的SF6新氣存放24h后才能進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量時(shí)應(yīng)盡量處在標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下，即通風(fēng)良好，無(wú)熱源直接輻射，空氣中的相對(duì)濕度不大于85%。所使用的附件（氣路連接管及減壓閥等）應(yīng)清潔、干燥。
4）操作方法應(yīng)嚴(yán)格按照儀器的使用說(shuō)明書(shū)。當(dāng)測(cè)量的數(shù)值穩(wěn)定后，用此穩(wěn)定的讀數(shù)乘量程擋減去儀器本底值就得到被測(cè)量氣樣的含水量ppm值。
5）當(dāng)環(huán)境溫度和壓力（包括高原地區(qū)）偏離儀器設(shè)計(jì)溫度和標(biāo)準(zhǔn)氣壓時(shí)，以下公式進(jìn)行計(jì)算
Q = P0 T1 / P1 T0 × Q’ (7-6)
式中 Q—校正后氣體的流量，ml/min;
P0—標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)壓力，Pa；
T1—環(huán)境狀態(tài)溫度，K；
T0—標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)溫度，273.15K
P1—環(huán)境壓力，Pa；
Q’—微水儀規(guī)定的標(biāo)準(zhǔn)工作量，ml/min。
二、露點(diǎn)法。露點(diǎn)法的全稱(chēng)為冷凝露點(diǎn)法，此類(lèi)試驗(yàn)中儀器種類(lèi)較多，應(yīng)嚴(yán)格按照該儀器的說(shuō)明書(shū)使用。下面介紹一些注意事項(xiàng)。
1）測(cè)量系統(tǒng)、管路及接頭等應(yīng)無(wú)泄漏。冷凝露點(diǎn)測(cè)量室和采樣系統(tǒng)的溫度應(yīng)高于待測(cè)氣體的露點(diǎn)溫度至少2℃。測(cè)量時(shí)的環(huán)境溫度為5~35℃（盡可能在10~30℃下測(cè)量），相對(duì)濕度不大于85%。
2）測(cè)量時(shí)應(yīng)目視測(cè)量?jī)x器，注意降溫速率。采用制冷劑時(shí)，制冷的速率應(yīng)相對(duì)穩(wěn)定，以免產(chǎn)生過(guò)冷現(xiàn)象，尤其在接近測(cè)試露點(diǎn)時(shí)，冷卻速度應(yīng)盡量放慢。測(cè)量時(shí)露點(diǎn)測(cè)量室的出氣端通大氣放空，露點(diǎn)測(cè)量室內(nèi)壓力等于大氣壓。
3）鏡面污染的處理。當(dāng)固體顆粒、污著物、油污等進(jìn)入儀器，鏡面被污染時(shí)會(huì)引起測(cè)量的露點(diǎn)偏離。除大氣外的其他蒸汽也能在鏡面上冷凝，使所觀察到的露點(diǎn)不同于相應(yīng)的水蒸汽含量的露點(diǎn)，在低露點(diǎn)測(cè)量時(shí)，有時(shí)會(huì)因鏡面上附著雜質(zhì)而使測(cè)量值偏高，因此可以用滌綢沾污水乙醇或四氯化碳輕輕擦洗鏡面，再用干凈滌綢擦凈。如果儀器有特殊規(guī)定，則按照規(guī)定進(jìn)行清理。
4）測(cè)量時(shí)應(yīng)重復(fù)3次，直到連續(xù)3次測(cè)試的露點(diǎn)差不大于±1.5℃為止。
